总科院。

林修远所在的实验室。

此时，他的助手们忙得飞起。

大家都没想到，短短一个晚上的时间。

林修远便已经将制造芯片所需的高端光刻机给设计出来了。

光刻机的种类一共有四种。

一是采用可见光作为光源，也称之为G线的光刻机，这类光刻机可以生产出纳米左右工艺的芯片。

二是采用紫外光作为光源，这类光刻机也称为UV光刻机，能生产纳米左右工艺的芯片。

三是采用深紫外光作为光源，这类光刻机称为UV光刻机，可生产纳米左右的芯片。

最后一种也是世界上最先进的高端光刻机。

这类光刻机采用的光源是极紫外光，国际上叫做EUV极紫外光刻机，可生产到纳米左右工艺的芯片。

芯片的性能是由制造它的工艺决定的。

工艺越精细，制造出来的芯片性能越高。

林修远设计的这一台高端光刻机便是EUV极紫外光刻机。

而且在光源和蚀刻工艺上还做了许多改进。

在制造芯片的工艺上甚至能达到皮米级。（纳米=皮米）

当然，这只是理论上而已，实际上能不能还得等光刻机生产出来才知道。

不过饶是如此也足以让芯片科研基地的人为之疯狂。

同时也在为林修远的惊天才学赞叹不已。

要知道国际上，一台高端EUV极紫外光刻机，仅仅重量就有吨，甚至超过了一辆超重型大卡车的空车重量。

而它内部的各种零件、机械件以及传感器等等，加起来零件总数量更是超过了十万。

想要在一夜之间将如此夸张的光刻机设计出来。

这根本不是人能完成的事情。

所以在林修远早上给各个实验室发了光刻机的设计图过去后。

林修远在总科院的芯片研发基地多了一个称呼。

那就是：林神。

除了神之外，人们不知道还有谁能这么牛批！

这可是涉及到十余万个零部件的光刻机啊。

林修远一夜之间设计出来就算了。

还将其工艺进行了改进。

让其能够生产出皮米级工艺的芯片。

如果最后成功了，那这绝对是跨时代的产物。

因为在国外。

无数的科研人员都说纳米是芯片工艺的极限。

但现在，林修远设计的光刻机便