杨玄在讲台上讲的绘声绘色，台下一帮老教授和一群年轻学生听得纷纷惊愕。

吴德欣教授更是凝眉沉思，狐疑道：“小伙子，我记得……你的那份设计稿，是极深紫外线的沉浸式光刻技，怎么现在说起uv了？”

uv是深紫外线，而uv则是极深紫外线。

“吴老，您先别急，我下面就说uv技术了。”

杨玄微微一笑的，继续道：“还是先从世界商业机构开始谈。”

“年EUVLL联盟成立以来，截止年，六年的时间，EUVLL的科学家发表了几百篇论文，验证了EUV光刻机的可行性，联盟解散！”

“但是，uv技术却已经开始在欧美国家立项、研发……”

“我现在给大家绘制一下，一个完整的uv光刻机，将涉及那些仪器。”

说着，杨玄转过身，拿起粉笔，在黑板上，快速绘图。

从光源、物镜、工作台、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、以及内部封闭框架减震器。

一共是十一个核心部件。

然而，其中却涉及到大量的核心技术，对于科学院而言，都是闻所未闻的。

和uv的光刻技术不同，uv的光源技术，必须配备能高端激光器。

毕竟，uv只能制造左右的ic芯片，然而uv却是可以制造个位数。

哪怕是杨玄重生前，国产光刻机都没有成功交付uv光刻机，更别说十五年前的现在谈论uv了。

长达一个小时的绘图和注解列举完毕，杨玄又在“光源技术”四个字上画了个圈。

转过身，拍了拍手，继续道：“诸位前辈，uv光刻机的核心技术，主要是在光源技术上。”

“由于黑板太小，我就不详细写出来了，下面我尽量简单说一下，大家可以用笔记着。”

“目前，主要有4种方案可以获得EUV光源……”

“分别是：同步辐射源、激光等离子体、放电等离子体和激光辅助放电等离子体。”

“同步辐射源的优点是可以产生高功率的EUV光，而且它对光学原件无碎屑污染（另外三种方案都会产生碎屑），可以长时间稳定地输出EUV光。”

“但是，过于复杂和庞大的装置构造，以及极其高昂的造价等都表明同步辐射源并不适用于HVM生产。”

“这种源自同步加速器的装置，大小都是百米单位来算的。”

“激光等离